3月17日，应我校科技处、物理与光电工程学院邀请，浙江大学匡翠方教授莅临龙湖校区作题为“高通量超分辨直写技术与系统”学术报告。物理与光电工程学院全体教师及研究生参加讲座。报告会由学院执行院长方莉俐主持。

会上，匡翠方教授系统讲解了双光束激光三维直写光刻系统的基本原理与应用场景，重点介绍了其团队突破“光学衍射极限”的先进光刻技术，并进一步开发了高通量并行直写系统，大幅提升刻写效率，为三维光子晶体、微光学器件、超表面结构等微纳制造领域提供了全新的技术路径。整场报告将激光直写前沿技术以深入浅出的方式进行阐述，激发了师生对这一前沿领域的探索热情与创新思维。

会后，匡翠方教授与师生围绕光源稳定性、系统对准精度等问题进行了深入交流，现场气氛热烈。本次报告不仅有效拓宽了师生的学术视野，更有力推动了我校在前沿光学与微纳制造领域的学术交流与科研合作。（通讯员 程欢欢）